開発製品

石英ガラス微細穴形成と金属充填技術のご紹介(開発品)

微細ビア形成とメタル充填技術

基板内容(クロスセクション-1)

・合成石英基板:φ4インチ×0.22mmt
・貫通穴開口径:φ40μm
・貫通穴ピッチ:150μm
・貫通穴に金属がボイドレスで充填

微細ビア形成とメタル充填技術

特徴

・ガラスViaマイクロクラックレス
・ガラスViaメタル充填ボイドレス
・ガラスTOP面 金属TOP面の平坦性

用途

・高周波対応低伝送損失基板(5G通信)
・高密度フリップチップ実装基板
・MEMS/センサー基板
・M-LED等表示デバイス基板

微細ビア形成とメタル充填技術

基板内容(クロスセクション-2)

・合成石英基板:φ4インチ×0.26mmt
・貫通穴開口径:φ20μm
・貫通穴ピッチ:150μm
・貫通穴に金属がボイドレスで充填

ガラス材へのメタライズ技術(薄膜~厚膜金属)

ITO / Cr / Ti / Al / Au / Ag / Cu / Ni / Mo合金 等ご相談ください。

配線パターンの製作技術

ガラス両面への配線パターン・多層配線も製作可能にてご相談ください。


サンドブラスト+ウエットエッチング工法による貫通穴加工

サンドブラスト+ウエットエッチング工法による貫通穴加工
サンドブラスト+ウエットエッチング工法によるTGV加工

基板内容

・無アルカリガラス
・φ12インチ×0.3mmt
・開口径:φ150μm
・ピッチ:300μm
・穴数:700,000個
・金属膜:8,000Å